就是其芯片成本的大幅降低，減少了光刻機所需掩模版的損耗，最終造成生產效率的數(shù)倍提高，當然，實際最重要的是這關系到1.5微米制程工藝！
步進式光刻機因為步進式，所以可以進行精微調節(jié)，根據(jù)上面的這臺光刻機的詳細介紹。
它的精度最小可支持0.8微米工藝，最大可支持五微米的制程工藝調節(jié)。
其最佳使用范圍是1.5微米工藝，如果使用0.8微米工藝，因為機器“穩(wěn)定性”的原因，其...
就是其芯片成本的大幅降低，減少了光刻機所需掩模版的損耗，最終造成生產效率的數(shù)倍提高，當然，實際最重要的是這關系到1.5微米制程工藝！
步進式光刻機因為步進式，所以可以進行精微調節(jié)，根據(jù)上面的這臺光刻機的詳細介紹。
它的精度最小可支持0.8微米工藝，最大可支持五微米的制程工藝調節(jié)。
其最佳使用范圍是1.5微米工藝，如果使用0.8微米工藝，因為機器“穩(wěn)定性”的原因，其...